目前國(guó)產(chǎn)化的推進(jìn)，半導(dǎo)體公司對(duì)于掩膜版的需求也不斷增加；同時(shí)半導(dǎo)體材料處于整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的上游環(huán)節(jié)，這也將對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展起著重要的作用....

      如今，光刻技術(shù)是制造芯片所必需的一項(xiàng)關(guān)鍵技術(shù)，而光刻技術(shù)中的光掩膜版則是非常重要的一環(huán)。

      掩膜版需求快速增長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)水平差距仍在

      伴隨著半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)整體需求持續(xù)擴(kuò)張，全球光掩膜版規(guī)模表現(xiàn)也開始逐漸增長(zhǎng)：

      根據(jù)SEMI對(duì)全球掩膜版相關(guān)行業(yè)的市場(chǎng)預(yù)測(cè)，在2023年至2028年期間，全球掩膜版行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模將以年均復(fù)合增速約16%的速度增長(zhǎng)；預(yù)計(jì)到2028年，全球掩膜版行業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到約623億元。

      對(duì)此，在半導(dǎo)體領(lǐng)域，光掩膜生產(chǎn)應(yīng)商可以分為：晶圓廠/IDM廠自行配套的工廠和獨(dú)立第三方光掩膜廠商兩大類，包括英特爾、三星、臺(tái)積電、中芯國(guó)際等均有自制掩膜版業(yè)務(wù)。

      其中，各廠商市場(chǎng)規(guī)模占比中，晶圓廠/IDM廠占比穩(wěn)步提升，2008年占比僅為 39%，2018 年已達(dá)到64%，2019年達(dá)到 65%，獨(dú)立第三方掩膜廠商占比35%。

      全球來看，掩膜版廠商主要集中在日本和美國(guó)，包括日本Toppan（凸版印刷）、日本DNP（大日本印刷）、美國(guó)Photronics（福尼克斯）、日本HOYA（豪雅）、韓國(guó) LG-IT（LGInnotek，LG集團(tuán)子公司）等廠商。

      視線回到國(guó)內(nèi)，目前中國(guó)掩膜版或因以下問題與國(guó)外掩膜版大廠仍有較大差距：

      1、技術(shù)瓶頸：相較于國(guó)際領(lǐng)先水平，中國(guó)光掩膜版的制造技術(shù)還存在較大差距，無法滿足高精度、高可靠性的應(yīng)用需求。

      2、設(shè)備更新：相較于國(guó)際領(lǐng)先水平相比，中國(guó)光掩膜版生產(chǎn)設(shè)備的更新?lián)Q代速度較慢，也制約了其技術(shù)水平的提高。

      3、知識(shí)產(chǎn)權(quán)：中國(guó)光掩膜版在知識(shí)產(chǎn)權(quán)保護(hù)方面存在問題，一些技術(shù)和產(chǎn)品被盜用或侵權(quán)，會(huì)直接影響企業(yè)的利益和創(chuàng)新積極性。

      某種意義上來說，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的不斷發(fā)展和政府加大對(duì)產(chǎn)業(yè)支持力度，中國(guó)光掩膜版產(chǎn)業(yè)也在逐步提高技術(shù)水平和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。

      半導(dǎo)體掩膜版：光刻工藝中不可或缺的圖形轉(zhuǎn)移工具

掩模版作為圖形轉(zhuǎn)移的重要工具，將承載的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到硅晶圓等基體材料上，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、平板顯示、電路板、觸控屏等領(lǐng)域。以TFT-LCD制造為例，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，將設(shè)計(jì)好的TFT陣列和彩色濾光片圖形按照薄膜晶體管的膜層結(jié)構(gòu)順序，依次曝光轉(zhuǎn)移至玻璃基板，終形成多個(gè)膜層所疊加的顯示器件；以晶圓制造為例，其制造過程需要經(jīng)過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導(dǎo)體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等。相比較而言，半導(dǎo)體掩模版在小線寬、CD 精度、位置精度等重要參數(shù)方面，均顯著高于平板顯示、PCB 等領(lǐng)域掩模版產(chǎn)品。

上游基材：掩膜基板+遮光層+保護(hù)膜

      掩膜版通常由基板、遮光層及保護(hù)膜三部分組成，其中基材主要采用玻璃基材（石英或蘇打），由于石英具有高通過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點(diǎn)，通常使用高純石英玻璃為基材，石英基板的制造方式需要通過石英錠冷加工后合成石英基板，市場(chǎng)主要供應(yīng)商為日本信越化學(xué)；遮光層分為硬質(zhì)遮光層和乳膠遮光層，其中乳膠主要用于PCB、觸控等場(chǎng)景，硬質(zhì)遮光層中由于鉻版機(jī)械強(qiáng)度高、耐用性強(qiáng)同時(shí)又可以形成細(xì)微圖形，因此目前主流掩膜版通常會(huì)在基板上鍍鉻來形成遮光層；保護(hù)膜通常為鋁合金框架上的一層透明薄膜，起到對(duì)掩膜的保護(hù)作用，價(jià)值量不高但技術(shù)難度較大。

      中段制造：光刻、檢測(cè)等均為核心環(huán)節(jié)

      掩模板的生產(chǎn)環(huán)節(jié)中掩膜版加工工藝分為CAD圖形設(shè)計(jì)、鍍鉻、涂膠、光刻、顯影、蝕刻、脫模、清洗、貼光學(xué)膜、關(guān)鍵參數(shù)測(cè)量、檢測(cè)、修補(bǔ)等核心關(guān)鍵步驟。

      1）涂膠、光刻為制造中的核心工藝，需要先對(duì)掩膜基板涂膠（通常是正性光刻膠），后通過光刻機(jī)對(duì)表面進(jìn)行曝光，通常以130nm為分界，130nm以上的光刻設(shè)備采用激光直寫設(shè)備，但隨著掩膜版的線寬線距越來越小，曝光過程中就會(huì)出現(xiàn)嚴(yán)重的衍射現(xiàn)象，導(dǎo)致曝光圖形邊緣分辨率較低，圖形失真，因此130nm及以下通常需采用電子束光刻完成；

      2）關(guān)鍵參數(shù)量測(cè)及檢測(cè)環(huán)節(jié)對(duì)掩膜版的質(zhì)量及良率至關(guān)重要，其中需對(duì)掩膜版關(guān)鍵尺寸（CD，Critical Dimension）、套刻精度（Overlay）等關(guān)鍵參數(shù)進(jìn)行測(cè)量，同時(shí)需使用自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備（AOI，Automatic Optical Inspection）檢測(cè)掩膜版制造過程產(chǎn)生的缺陷以及通過激光等對(duì)掩膜版生產(chǎn)過程中的缺陷及微粒進(jìn)行修復(fù)；

      下游分類：130nm以上出貨量較大，55/65~28nm單價(jià)較高

      掩膜版一般按照制程進(jìn)行分類，制程越高端單價(jià)越貴。根據(jù)Semi統(tǒng)計(jì)，2019年全球光掩膜版出貨量達(dá)55.9萬張，其中22nm以下掩膜版出貨量達(dá)8.8萬張，占全球16%，28-90nm掩膜版出貨量達(dá)17.5萬張，占31%，130nm及以上掩膜版出貨量達(dá)29.6萬張，占53%，未來隨著28nm及以下制程的擴(kuò)產(chǎn)，該占比有望大幅提升；同時(shí)從單價(jià)來看，不同制程價(jià)格差異較大，其中55/65~28nm掩膜版單價(jià)在數(shù)萬元，而130nm及以上單價(jià)則僅數(shù)千元。

      掩膜版進(jìn)口受限，國(guó)產(chǎn)替代需求緊迫

      美國(guó)將 250nm 制程節(jié)點(diǎn)以下的掩膜版納入限制清單。2022 年 10 月 7 日 美國(guó)商務(wù)部公布了修訂后的《出口管理?xiàng)l例》，加大對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備及 零部件的出口供貨限制，升級(jí)對(duì)于中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的制裁。本次制裁包 含了對(duì)于掩膜版的供應(yīng)限制，意味著我國(guó)進(jìn)口國(guó)外先進(jìn)制程掩膜版將受 阻，國(guó)內(nèi)被迫壓縮的對(duì)于進(jìn)口掩膜版的需求將由國(guó)產(chǎn)掩膜版填補(bǔ)，掩膜 版行業(yè)的國(guó)產(chǎn)替代進(jìn)程有望加速。

      國(guó)內(nèi)晶圓廠已跨過 250nm 制程，國(guó)產(chǎn)替代確定性強(qiáng)。國(guó)內(nèi)晶圓廠均已實(shí) 現(xiàn)了 250nm 制程節(jié)點(diǎn)的突破，2021 年國(guó)內(nèi)晶圓廠 CR3 的銷售額中 130nm 及以下制程占比達(dá) 64%，在進(jìn)口受限的情況下國(guó)內(nèi)晶圓廠商將積極尋求 國(guó)產(chǎn)替代，需求確定性強(qiáng)。目前多數(shù)頭部國(guó)產(chǎn)晶圓廠商均需外采掩膜版，美國(guó)限制掩膜版出口后亟 需國(guó)產(chǎn)掩膜版替代?，F(xiàn)階段國(guó)內(nèi)晶圓代工廠 CR3 中芯國(guó)際、華虹集團(tuán)和 晶合集成中只有中芯國(guó)際配套了掩膜版制造設(shè)施，其他晶圓代工廠均需 向第三方廠商采購(gòu)掩膜版。在美國(guó)限制 250nm 及以下制程掩膜版出口、 而國(guó)內(nèi)掩膜版廠商制程節(jié)點(diǎn)已經(jīng)越過 250nm 節(jié)點(diǎn)，亟需采購(gòu)國(guó)產(chǎn)掩膜版 以填補(bǔ)進(jìn)口掩膜版缺口。

      半導(dǎo)體掩膜版全球市場(chǎng)規(guī)模約54億美元，國(guó)產(chǎn)化率有望快速提升。根據(jù)Semi統(tǒng)計(jì)，2021掩膜版占晶圓制造材料比例為12%，為僅此于硅片的第二大耗材，推算2022年全球半導(dǎo)體掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約54億美元，中國(guó)大陸掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約90億元，目前中國(guó)大陸廠商主要集中于350~180nm制程節(jié)點(diǎn)的掩膜版生產(chǎn)，部分廠商已掌握130nm制程節(jié)點(diǎn)的生產(chǎn)技術(shù)，對(duì)于90nm及以下掩膜版國(guó)產(chǎn)化率幾乎為零，因此隨著中國(guó)大陸晶圓廠加速擴(kuò)建以及供應(yīng)鏈安全的考量，未來中高端掩膜版國(guó)產(chǎn)化率有望快速提升。

      受益于平板顯示產(chǎn)能向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，面板掩膜版同樣有望加速國(guó)產(chǎn)替代。根據(jù)CINNO Research統(tǒng)計(jì)，2022年中國(guó)大陸LCD/OLED制造產(chǎn)能分別占全球72%/40%，全球平板顯示制造產(chǎn)能加速向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移。2022年全球平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模約50億元，中國(guó)大陸市場(chǎng)約30億元，根據(jù)我們測(cè)算2022年國(guó)內(nèi)面板掩膜版供應(yīng)商市場(chǎng)份額合計(jì)僅20%，我們認(rèn)為隨著面板產(chǎn)業(yè)鏈向中國(guó)大陸轉(zhuǎn)移，以及OLED滲透率的提升，面板掩膜版國(guó)產(chǎn)化率同樣有望加速提升。